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什么是X熒光光譜儀的分析檢測(cè)?
發(fā)布時(shí)間:2022-03-29 點(diǎn)擊:1388

X熒光光譜儀是作為物質(zhì)分析測(cè)試的重要手段,其應(yīng)用主要取決于儀器技術(shù)和理論方法的發(fā)展。

目前X熒光光譜儀主要有三種類(lèi)型:實(shí)驗(yàn)室使用、采用各種不同激發(fā)源的熒光X射線光譜儀和非色散的熒光分析儀;小型便攜式的X射線熒光分析儀;工業(yè)上的專門(mén)儀器如多光路的X射線量子儀等。這些儀器和方法分別在工業(yè)上如冶金、地質(zhì)、化工、機(jī)械、石油等,農(nóng)業(yè)上,醫(yī)藥衛(wèi)生和科研如物理、化學(xué)、生物、滴血、天文學(xué)等獲得了廣泛應(yīng)用。分析范圍包含了元素周期表中絕大部分元素,超鈾元素也有人利用此法進(jìn)行測(cè)定,分析靈敏度隨儀器條件及分析對(duì)象和待測(cè)元素而異。

作為常量分析,現(xiàn)代儀器的高度穩(wěn)定性,X熒光光譜分析法的準(zhǔn)確度已可與經(jīng)典的化學(xué)分析法相媲美。即便對(duì)不久前才開(kāi)展起來(lái)的輕元素分析,也是如此。此外由于現(xiàn)代儀器的高度自動(dòng)化,X熒光光譜分析法在爐前分析和工藝流程的控制分析上也有不錯(cuò)的應(yīng)用,一些工業(yè)國(guó)家已經(jīng)在工礦企業(yè)里普遍使用,已經(jīng)成為一種很有地位的常規(guī)分析手段。

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X熒光光譜分析儀的應(yīng)用

X熒光光譜儀可有效的用于測(cè)定薄膜的厚度和組成,例如在冶金工業(yè)上測(cè)定鍍層或金屬薄片的厚度,在涂料工藝上測(cè)定涂層的厚度以及在其它工業(yè)部門(mén)中用于金屬腐蝕、感光材料、磁性錄音帶和光量子放大器等以測(cè)定其薄膜厚度和組成,它也可以用在動(dòng)態(tài)的分析上,連續(xù)測(cè)定某一體系在它的物理化學(xué)作用過(guò)程中組成變化的情況。例如,由于相變產(chǎn)生的金屬間的擴(kuò)散,固體從溶液中沉淀的速度,固體在固體中擴(kuò)散和固體在液體中溶解的速度,溶液混合的速度以及表面腐蝕的速度等等。

作為一種重要檢測(cè)手段,X熒光光譜儀分析技術(shù)已經(jīng)得到廣泛的發(fā)展。

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